等離子光氧化一體式廢氣處理設(shè)備

　　對(duì)于一些廢氣成分比較復(fù)雜，需要采用等離子、高臭氧型紫外線光束、氧化反應(yīng)催化劑等工藝來(lái)降解復(fù)雜成分的有機(jī)廢氣，如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、甲苯、苯、二甲苯等，改變其分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，通過(guò)高能的紫外線光束照射、催化劑、正氧離子的氧化反應(yīng)，降解為低分子化合物，如H２O和H2O等。

　　常用于各位工業(yè)噴涂、印刷、印花、絲印揮發(fā)性有機(jī)廢氣以及各類惡臭型氣體的除臭、殺菌凈化處理。

　　等離子光氧化一體式設(shè)備處理VOCs機(jī)理

　　UV光解是高壓電源激發(fā)V紫外燈光發(fā)光，產(chǎn)生高能V紫外線光束，在催化劑的輔助作用下，紫外線對(duì)惡臭氣體的分子鏈進(jìn)行分解，將其大分子結(jié)構(gòu)打碎變成小分子結(jié)構(gòu)；低溫等離子是電子在外加電場(chǎng)的作用下，從電場(chǎng)中獲得能量，成為高能電子，這些高能電子速度很快，在與污染物接觸時(shí)，通過(guò)非彈性碰撞將其自身攜帶的能量傳遞給污染物，轉(zhuǎn)化為汚染物分子的內(nèi)能或動(dòng)能，這些獲得能量的分子被激發(fā)或發(fā)生電離形成活性基團(tuán)，一方面這些活性基因與污染物分子通過(guò)化學(xué)反應(yīng)，后生成ＣO2和H2O，另一方面當(dāng)污染物分子獲得的能量大于其自身結(jié)合鍵能時(shí)，污染物分子的分子鍵斷裂，分解成無(wú)害的氣體或單質(zhì)原子。兩者有機(jī)結(jié)合，對(duì)復(fù)雜的廢氣成分具有較好的祛除作用。

　　等離子光氧化廢氣處理設(shè)備

　　等離子光氧化一體式設(shè)備典型特點(diǎn)

　　一體式設(shè)備基本都是在常溫常壓下工作，操作簡(jiǎn)單。

　　該技術(shù)可以同時(shí)去除多組分復(fù)雜的VOCs。

　　適用于中低濃度VOCs的脫除，與燃燒法相比較，所需耗能卻非常低。

　　常規(guī)采用304不銹鋼材質(zhì)制作而成，材質(zhì)可選碳鋼、201、316L等。

　　凈化效率高，終產(chǎn)物為H２O和CO2，當(dāng)有機(jī)物為氯代物時(shí)，應(yīng)加上氯化物，無(wú)其他中間副產(chǎn)物，降低了有機(jī)物的毒性，同時(shí)避免其他方式的后期處理問(wèn)題。

　　優(yōu)異的防火性能，采用開關(guān)、電源和電路的三重自動(dòng)防護(hù)功能設(shè)計(jì)。

　　設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)緊湊，模塊化結(jié)構(gòu)，安裝維護(hù)方便。

　　等離子光氧化廢氣處理設(shè)備

　　低溫等離子體技術(shù)處理VOCs廢氣適用范圍

　　各種有害氣體如H2S、SOX、NOX、NH3、三甲胺、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯等惡臭氣體的處理。

　　噴漆、噴涂、油墨印刷、印染車間。

　　食品、醫(yī)藥、造紙車間。

　　煉油廠、橡膠廠、化工廠、等排放之廢氣處理

　　等離子光氧化廢氣處理設(shè)備

　　等離子光氧化一體式凈化設(shè)備基本型號(hào)和技術(shù)參數(shù)

　　各廠家的規(guī)格型號(hào)不盡相同，市面上以小充大、以次充好的產(chǎn)品屢見不鮮，以下是我司根據(jù)詳細(xì)和參數(shù)計(jì)算以及工程師多年的現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)綜合設(shè)計(jì)出的合理優(yōu)化的尺寸規(guī)格，也可以根據(jù)客戶的要求定制對(duì)應(yīng)尺寸規(guī)格和材質(zhì)的等離子光氧化一體式凈化設(shè)備。

　　基本型號(hào)命名規(guī)則如下：

　　等離子光氧化廢氣處理設(shè)備

　　技術(shù)參數(shù)表全部以304不銹鋼材質(zhì)為基準(zhǔn)，其他規(guī)格型號(hào)基本尺寸與其對(duì)應(yīng)風(fēng)量相同：

　　等離子光氧化廢氣處理設(shè)備

　　以上是常規(guī)型等離子光氧化一體式廢氣處理設(shè)備的尺寸和技術(shù)參數(shù)，更大風(fēng)量或特殊尺寸請(qǐng)聯(lián)系我司工程師，為您專業(yè)特殊定制。